日前国内一家科技企业表示它已实现14纳米工艺的纯国产，这意味着国内的芯片制造产业链已达到14纳米，光刻机问题估计已得到解决，如此对于中国的芯片制造这个大难题或许也已取得了重大突破。

该科技企业指出它已实现了14纳米工艺以上的纯国产，即是采用国产的EDA软件设计芯片，然后以国产的芯片制造工艺生产芯片，从而彻底摆脱了美国技术，这是一个巨大的系统工程。

此前EDA软件几乎被美国垄断，美国三大EDA企业占有全球EDA软件市场八成以上的份额，美国也以此限制中国芯片，限制美国的EDA软件企业为中国芯片提供先进的EDA软件，如今中国已量产的14纳米工艺将无需再依赖美国EDA软件了。

至于14纳米工艺，此前无法实现纯国产，关键就在于光刻机，其他芯片制造环节都已达到了14纳米，而国产的光刻机企业早就已在28纳米浸润式光刻机上取得了进展，如今应该已投入生产。

28纳米浸润式光刻机可谓先进光刻机的重要门槛，从28纳米到7纳米工艺都可以浸润式光刻机生产，技术基本是相通的，28纳米浸润式光刻机投产，接下来解决14纳米光刻机、7纳米光刻机都将加快研发，如此国产的7纳米工艺量产就有了希望。当然以这个技术生产的7纳米与采用EUV光刻机生产的7纳米还有些差距，但是已能满足国内九成的芯片需求。

目前国内生产的芯片大多数都是28纳米以上工艺，这已能满足国内七成的芯片需求，其实全球芯片有七成以上的芯片都是以成熟工艺生产的芯片，诸如汽车、家电、电视等产品都可以用28纳米以上工艺生产的芯片，而且可靠性更高、成本更低。

中国芯片已成熟工艺生产已具有较强的竞争力，2022年上半年中国的芯片出口量增加了两成多，甚至占领拥有强大芯片优势的美国，美国家电制造商就表示离不开中国芯片，最终迫使美国修改了芯片规则，凸显出中国芯片即使采用成熟工艺依然拥有独特的优势。

如果中国芯片解决14纳米乃至7纳米工艺的国产化问题，中国芯片的竞争力将更强，因为中国芯片在成本方面优势明显，以成熟工艺生产的芯片，价格只有美国芯片的四分之一，如果在芯片工艺方面的差距进一步减小，必然会进一步压制美国芯片。

事实上从去年以来，全球芯片市场对7纳米以下的芯片需求已出现减少的迹象，台积电的7纳米EUV工艺产能利用率暴跌五成、5纳米工艺出现产能利用率不足的问题，原因就是先进工艺成本太高了，在全球各个行业都处于衰退的情况下，企业更看重成本，如此更是为中国芯片提供了发展的机会。

美国富豪比尔盖茨一直都强调美国限制中国芯片无法阻止中国发展先进芯片技术，如今中国芯片在14纳米乃至更先进的7纳米都取得进展，印证了比尔盖茨的预言，相反美国芯片却因此蒙受了巨额的损失，2022年美国芯片的营收普遍出现了下滑，大举裁员，仅是Intel就已裁员过万人，美国的做法让美国芯片陷入了困境之中。